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    多功能復合鍍膜設備系列

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    產品中心

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    9.1電弧與磁控濺射復合型真空鍍膜設備

    電弧與磁控濺射復合型真空鍍膜設備采用電弧離子鍍和直流磁控濺射、中頻磁控濺射技術及脈沖偏壓技術結合在同一鍍膜機上,它既可以單獨用電弧或單獨用磁控濺射鍍膜,也可以利用兩種技術的優勢在鍍膜過程中發揮不同階段主要作用,比如在鍍膜初始利用電弧的高能粒子轟擊清洗和打底層,以增強膜基結合力;隨后用中頻濺射鍍中間主層,可以得到細膩光滑組織,可滿足多功能鍍膜的需要。

    9.2蒸發磁控濺射鍍膜設備同時配備高效的電阻加熱蒸發裝置和先進的圓柱或平面磁控濺射裝置,電阻加熱蒸發鍍膜技術和磁控濺射鍍膜技術的有機結合,使設備的適用范圍更廣,可得到多種不同性能的膜層。

    特點:

    視不同的 待鍍工件,配備有高壓直流離子清洗系統和 交流離子清洗系統,尤其是交流離子清洗系統其高密度的 等離子要待鍍工件的 清洗更徹底。使鍍的 薄膜和工件附著力顯著提高。設備采用獨特的立式雙門結構,使工件及鍍料的裝卸與鍍膜同時進行,大大提高了工作效果。

    型號

    ZP-700

    ZP-900

    ZP-1000

    ZP-1250

    ZP-1400

    ZP-1600

    真空室尺寸

    Ф700×H

    900mm

    Ф900×H

    1100mm

    Ф1000×H

    1200mm

    Ф1250×H

    1350mm

    Ф1400×H

    1600mm

    Ф1600×H

    1800mm

    電源類型

    中頻磁控電源;脈沖偏壓電源;多弧電源

    真空室結構

    立式雙開門、立式前開門結構、后置抽氣系統

    真空室材質

    SS304優質不銹鋼材質腔體

    極限真空

    8.0×10-4Pa

    8.0×10-4Pa

    8.0×10-4Pa

    8.0×10-4Pa

    8.0×10-4Pa

    8.0×10-4Pa

    抽氣時間

    從大氣抽至6.7×10-3Pa用時8到15分鐘(空載潔凈)

    真空獲得系統

    擴散泵+羅茨泵+機械泵+維持泵(具體型號可根據客戶的要求進行配置)

    磁控靶類型

    圓柱形磁控靶、孿生磁控對靶

    磁控靶數量

    根據不同鍍膜工藝和客戶的需求進行選配

    轉架轉動方式

    行星式公自轉、變頻調速(可控可調,可設定上下轉架,軸數可由實際情況而定)

    工藝氣體 

    質量流量控制儀(3-4路),手動或自動加氣系統

    冷卻方式 

    水循環冷卻方式,另需配冷卻水塔或工業冷水機或深冷系統(客戶提供)

    控制方式

    手動或PLC+觸摸屏操作

    報警及保護

    水壓報警,氣壓報警,過流保護,執行相應保護措施及電氣聯鎖功能。

    設備占地面積 

    W3m×L3.5m

    W3m×L3.5m

    W3.5m×L5m

    W3.5m×L5m

    W4.5m×L6m

    W5m×L6m

    其他技術參數 

    水壓≥0.2MPa,水溫≤25℃,氣壓0.5-0.8MPa

    備注

    具體配置大小均可根據客戶的鍍膜產品要求進行設計。

    可定制的真空室尺寸范圍Ф500-3000mm,高度500-3000mm。

    產品型號:@ZP-產品分類:@多功能中頻鍍膜機
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