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    磁控濺射真空鍍膜機

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    產品中心

    *

    真空磁控濺射鍍膜機廣泛應用于家用電器、鐘表、燈具、工藝美術品、玩具、車燈反光罩、手機按鍵外殼以及儀器儀表、塑料、玻璃、陶瓷、磁磚等表面裝飾性鍍膜及工模具的功能涂層。本公司的磁控濺射鍍膜機有幾大優勢如膜厚可控性和重復性好;薄膜與基片的附著力強;制備特殊材料的薄膜,可以使用不同的材料同時濺射制備混合膜,化合膜,TiN仿金膜;膜層純度高等。 

    型號 

    CK-700

    CK-900

    CK-1000

    CK-1250

    CK-1400

    CK-1600

    真空室尺寸

    Ф700×H

    900mm

    Ф900×H

    1100mm

    Ф1000×H

    1200mm

    Ф1250×H

    1350mm

    Ф1400×H

    1600mm

    Ф1600×H

    1800mm

    電源類型

    脈沖偏壓電源、直流磁控電源

    真空室結構

    立式雙開門、立式前開門結構、后置抽氣系統

    真空室材質

    SS304優質不銹鋼材質腔體

    極限真空

    8.0×10-4Pa

    8.0×10-4Pa

    8.0×10-4Pa

    8.0×10-4Pa

    8.0×10-4Pa

    8.0×10-4Pa

    抽氣時間

    從大氣抽至6.7×10-3Pa用時8到15分鐘(空載潔凈)

    真空獲得系統

    擴散泵+羅茨泵+機械泵+維持泵(具體型號可根據客戶的要求進行配置)

    磁控靶類型

    平面磁控靶,圓柱形磁控靶

    偏壓電源功率

    25KW

    25KW

    30KW

    30KW

    40KW

    40KW

    轉架轉動方式

    行星式公自轉、變頻調速(可控可調,可設定上下轉架,軸數可由實際情況而定)

    工藝氣體 

    質量流量控制儀(3-4路),手動或自動加氣系統

    冷卻方式 

    水循環冷卻方式,另需配冷卻水塔或工業冷水機或深冷系統(客戶提供)

    控制方式

    手動或PLC+觸摸屏操作

    報警及保護

    水壓報警,氣壓報警,過流保護,執行相應保護措施及電氣聯鎖功能。

    設備占地面積 

    W3m×

    L3.5m

    W3m×

    L3.5m

    W3.5m×

    L5m

    W3.5m×

    L5m

    W4.5m×

    L5.5m

    W4.5m×

    L5.5m

    其他技術參數 

    水壓≥0.2MPa、水溫≤25℃、氣壓0.5-0.8MPa

    備注

    具體配置大小均可根據客戶的鍍膜產品要求進行設計,另可加配中頻電源和弧電源滿足不同鍍膜工藝要求??啥ㄖ频恼婵帐页叽绶秶?nbsp;Ф 500-3000mm,高度500-3000mm

    產品型號: CK-01產品分類:@磁控濺射真空鍍膜機
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